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    蚀刻原理
    蚀刻原理相对来说并不复杂,但了解精通蚀刻原理并不简单。蚀刻加工的原理通常所指蚀刻也称光化学蚀刻
     
    (photochemical etching),指通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐
     
    蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版,也广泛地被使用于减轻重量(Weight 
     
    Reduction)仪器镶板,铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工;经过不断改良和工艺设备发展,亦可以用于航空、机
     
    械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,蚀刻更是不可或缺的技术。蚀刻加工的流程:曝光
     
    法:开料→清洗板材(不锈钢其它金属材料)→烘干→涂布→烘干→曝光→ 显影→蚀刻→脱膜→OK ;网印法:开料→清洗板材(
     
    不锈钢其它金属材料)→丝网印→蚀刻→脱膜→OK ;蚀刻加工过程中应注意的问题提高安全处理和蚀刻薄铜箔及薄层压板的能
     
    力。在蚀刻多层板内层这样的薄层压板时,板子容易卷绕在滚轮和传送轮上而造成废品。所以,蚀刻内层板的设备必须保证能
     
    平稳的,可靠地处理薄的层压板。许多设备制造商在蚀刻机上附加齿轮或滚轮来防止这类现象的发生。更好的方法是采用附加
     
    的左右摇摆的聚四氟乙烯涂包线作为薄层压板传送的支撑物。对于薄铜箔(例如1/2或1/4盎司)的蚀刻,必须保证不被擦伤或划
     
    伤。薄铜箔经不住像蚀刻1盎司铜箔时的机械上的弊端,有时较剧烈的振颤都有可能划伤铜箔。减少污染的问题:铜对水的污
     
    染是印制电路生产中普遍存在的问题,氨碱蚀刻液的使用更加重了这个问题。因为铜与氨络合,不容易用离子交换法或碱沉淀
     
    法除去。所以,采用第二次喷淋操作的方法,用无铜的添加液来漂洗板子,大大地减少铜的排出量。然后,再用空气刀在水漂
     
    洗之前将板面上多余的溶液除去,从而减轻了水对铜和蚀刻的盐类的漂洗负担。
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